МОДЕЛИРОВАНИЕ РЕЛЬЕФА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ ПРИ НАНОРАЗМЕРНОМ ПРОФИЛИРОВАНИИ МЕТОДОМ ФОКУСИРОВАННЫХ ИОННЫХ ПУЧКОВ

В работе представлены результаты разработки математической модели расчета двумерного рельефа поверхности подложки при травлении фокусированным ионным пучком. Проведен вычислительный эксперимент по расчету двумерного рельефа подложки при воздействии фокусированного ионного пучка. Разработаны алгоритм расчета рельефа поверхности при травлении с учетом эффекта переосаждения распыленного материала и программное обеспечение, позволяющее прогнозировать параметры рельефа поверхности подложки в зависимости от параметров ионного пучка и сканирующей системы. Адекватность разработанной модели подтверждена сравнением с результатами экспериментальных исследований.