X-RAY REFLECTOMETRY AND ITS APPLICATION TO STUDYING THE LASER EVAPORATION OF AN OXIDE FILM FROM THE SILICON SURFACE

14 сентября 2018
123
Предметная область
Выходные данные
Ключевые слова
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации PETRAKOV A.P.
Ссылка на публикацию в интернете elibrary.ru/item.asp?id=13423509

Аннотация

X-RAY
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.