EFFECT OF DURATION OF THERMAL DIFFUSION OF BORON ON SILICON STRUCTURE STUDIED BY TRIPLE-CRYSTAL X-RAY DIFFRACTOMETRY

14 сентября 2018
remove_red_eye4
Предметная область
Выходные данные
Ключевые слова
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации PETRAKOV A.P., SHILOV S.V., ZAǏNULIN G.G.
Ссылка на публикацию в интернете elibrary.ru/item.asp?id=13335367

Аннотация

DIFFRACTOMETRY
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.