О ВЛИЯНИИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ НА ПОВЕРХНОСТЬ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ AL2O3

Рассмотрены вопросы синтеза тонких монолитных пленок золь-гель технологией с рекристаллизацией электронным лучом. Пленкообразующей основой выбран изопропилат алюминия, который позволяет получить высокочистый ксерогель. Это неоднородное со- стояние пленки является исходным материалом для рекристаллизации электронным лучом в монолитную пленку Al2O3. Показано, что при электронно-лучевой обработке при низкой предварительной температуре подогрева образца, могут формироваться островковые монолитные пленки Al2O3. Приведены результаты экспериментальных исследований и предложен механизм формирования полученных пленок.