Особенности разработки процесса выращивания структур inaln/gan методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений, применяемых в свч-транзисторах с высокой удельной выходной мощностью

14 сентября 2018
235
Предметная область
Выходные данные
Ключевые слова
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации БУРОБИН В.А.1, КАРГИН Н.И.2, КОНОВАЛОВ А.М.1, МАКАРОВ А.А.1, ЩУКА А.А.3 ; 1 ОАО «ГЗ «Пульсар» 2 Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» 3 Московский физико-технический институт (государственный университет)
Ссылка на публикацию в интернете elibrary.ru/item.asp?id=22155270

Аннотация

ЖУРНАЛ:


УСПЕХИ СОВРЕМЕННОЙ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ
Издательство: Издательство "Радиотехника" (Москва)
ISSN: 2070-0784

КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА:


СВЧ-ЭЛЕКТРОНИКА, MICROWAVE ELECTRONICS, ШИРОКОЗОННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ, WIDE BANDGAP SEMICONDUCTOR MATERIALS, НАНОГЕТЕРОСТРУКТУРЫ, NANODIMENSIONAL HETEROSTRUCTURES

АННОТАЦИЯ:

Рассмотрены особенности выращивания наногетероструктур на основе нитрида галлия для СВЧ-транзисторов. Проведено сравнение материалов, используемых в качестве подложек, отражены технологические аспекты формирования гетероэпитаксиальных структур InAlN/GaN. Показаны преимущества разрабатываемых структур по сравнению с используемым в настоящее время арсенидом галлия.
Подробнее
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.