Особенности разработки процесса выращивания структур inaln/gan методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений, применяемых в свч-транзисторах с высокой удельной выходной мощностью

14 сентября 2018
413
Предметная область —
Выходные данные —
Ключевые слова —
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации БУРОБИН В.А.1, КАРГИН Н.И.2, КОНОВАЛОВ А.М.1, МАКАРОВ А.А.1, ЩУКА А.А.3 ; 1 ОАО «ГЗ «Пульсар» 2 Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» 3 Московский физико-технический институт (государственный университет)
Ссылка на публикацию в интернете elibrary.ru/item.asp?id=22155270

Аннотация

ЖУРНАЛ:


УСПЕХИ СОВРЕМЕННОЙ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ
Издательство: Издательство "Радиотехника" (Москва)
ISSN: 2070-0784

КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА:


СВЧ-ЭЛЕКТРОНИКА, MICROWAVE ELECTRONICS, ШИРОКОЗОННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ, WIDE BANDGAP SEMICONDUCTOR MATERIALS, НАНОГЕТЕРОСТРУКТУРЫ, NANODIMENSIONAL HETEROSTRUCTURES

АННОТАЦИЯ:

Рассмотрены особенности выращивания наногетероструктур на основе нитрида галлия для СВЧ-транзисторов. Проведено сравнение материалов, используемых в качестве подложек, отражены технологические аспекты формирования гетероэпитаксиальных структур InAlN/GaN. Показаны преимущества разрабатываемых структур по сравнению с используемым в настоящее время арсенидом галлия.
Подробнее
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.