ВЛИЯНИЕ ОБЛУЧЕНИЯ НА ПРИБОРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТРАНЗИСТОРНЫХ СТРУКТУР НА ОСНОВЕ ALGAN/GAN

14 сентября 2018
260
Предметная область
Выходные данные
Ключевые слова
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации КАРГИН Н.И.1, ГРОМОВ Д.В.1, КУЗНЕЦОВ А.Л.1, ГРЕХОВ М.М.
Ссылка на публикацию в интернете elibrary.ru/item.asp?id=21136673

Аннотация

ЖУРНАЛ:


ВЕСТНИК НАЦИОНАЛЬНОГО ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОГО ЯДЕРНОГО УНИВЕРСИТЕТА МИФИ
Издательство: МАИК "Наука/Интерпериодика" (Москва)
ISSN: 2304-487X

АННОТАЦИЯ:

Разработана технологическая схема и изготовлены транзисторные структуры на основе гетероструктур AlGaN/GaN. Измерены вольт-амперные характеристики (ВАХ) транзисторных структур, а также предельная частота усиления по току и предельная частота усиления по мощности. Транзисторные структуры подвергались облучению реакторными нейтронами с энергией до 4 МэВ и флюенсом 2 ? 1014 см-2. Показано, что ток стока и выходная мощность структур падает на 10%, а частота усиления по току и частота усиления по мощности уменьшаются на 20-–25%.
Подробнее
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.