Growth of aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition
14 сентября 2018
354
Предметная область | — |
Выходные данные | — |
Ключевые слова | — |
Вид публикации | Статья |
Контактные данные автора публикации | В.А. Тарала, А.С. Алтахов, М.Ю. Шевченко, Д.П. Валюхов, В.Я. Мартенс 355029, г. Ставрополь, пр. Кулакова 2, корпус 10, ауд. 213. Директор центра коллективного пользования – кандидат физико-математических наук, доцент Лисицын Сергей Викторович, тел. раб.: |
Ссылка на публикацию в интернете | link.springer.com/article/10.1134/S0020168515070158 |
Аннотация
Web of science, Inorganic Materials, 2015, Vol. 51, No. 7, pp. 728–735.
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.