Метод молекулярного наслаивания (ALD)

Метод Молекулярного Наслаивания (МН), или зарубежный аналог Atomic Layer Deposition (ALD), – это химический метод нанесения тонких пленок веществ на подложку из газовой фазы. Химическая сборка вещества осуществляется путем многократного чередования двух или нескольких реакций, которые в определенной заданной последовательности проводятся на поверхности подложки. Важнейшим отличительным признаком данного метода является саморегуляция процесса: взаимодействие каждого из газообразных реагентов с поверхностью подложки приводит к образованию новых структурных единиц, химически связанных с поверхностью подложки. Результатом одного цикла поочередной раздельной обработки газообразными реагентами (например, парами триметилалюминия и воды) является образование на поверхности подложки монослоя синтезируемого соединения (например, Al2O3). Толщина синтезируемого слоя при этом определяется количеством циклов таких реакций, а природа синтезируемого вещества – химическим составом реагентов.