Домасштабировались - экономика уменьшения топологий монолитных КМОП-микросхем

14 сентября 2018
287
Предметная область
Выходные данные
Ключевые слова
Вид публикации Статья
Контактные данные автора публикации
Ссылка на публикацию в интернете isvch.ru/wordpress/wp-content/uploads/2014/07/mikushin.pdf

Аннотация

Основной движущий фактор развития полупроводниковой
промышленности – производственные затраты. Для многих
компаний переход к 28-нм топологии замедлился из-за более высоких затрат на обработку пластин и производство монолитных КМОП-микросхем, чем для 40-нм технологии. Затраты на производство 28-нм микросхем будут сокращаться,
но проблемы проектирования для обеспечения технологичности
производства (Design-For-Manufacturing, DFM) КМОП-микросхем
с нанометровыми топологическими нормами останутся. Вот почему существуют серьезные причины рассмотреть варианты 28-нм процесса, обеспечивающие в сравнении с процессом предыдущего поколения меньшее энергопотребление и более высокий выход годных, а следовательно, и меньшие издержки производства. Проанализировать стоимостные показатели различных вариантов 28-нм технологического процесса следует и для принятия правильного решения относительно развития следующего поколения – 20-нм технологии.
Подробнее
Для того чтобы оставить комментарий необходимо авторизоваться.