Лампа с UV-LED – технологии будущего в устройствах экспонирования

Ключевым элементом в процессах литографии полупроводников является источник УФ-света для экспонирования. Получение экспонирования высокой интенсивности и достаточной равномерности по всей площади подложки, а также излучения подходящего спектрального диапазона является основной задачей, которая стоит перед специалистами, разрабатывающими источники света и оптику для уменьшения дифракции для установок совмещения и экспонирования. Экспонирование фоточувствительных резистов требует использования высокотехнологичных источников света, и лишь несколько вариантов подходят для этой узкоспециализированной задачи.