Система высокомощного импульсного магнетронного распыления (HIPIMS) для формирования ионно-плазменных покрытий в вакуумной установке
14 сентября 2018
358
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2011 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Система высокомощного импульсного магнетронного распыления (HIPIMS) для формирования ионно-плазменных покрытий в вакуумной установке входит в состав Лабораторного комплекса для улучшения адгезионных свойств нанокомпозитных покрытий на деталях ТЭС и АЭС на основе их обработки разрядом с высоким содержанием металлической плазмы, который создает условия для эпитаксиального роста пленки и улучшает адгезию покрытия и подложки