Установка атомно-слоевого осаждение TFS 200 (Beneq)
14 сентября 2018
478
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Финляндия |
| Год производства | 2011 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 45 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | Согласно утвержденному порядку предоставления услуг пользователям научного оборудования. |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для современных исследований и разработок. Установка TFS 200 идеально подходит для нанесения, например, оксидов, нитридов, карбидов, металлов, сульфидов, флюоридов, биоматериалов, полимеров, наноламинатов и смешанных структур. Все детали системы реализованы с учетом обеспечения гибкости, модульности и простоты в использовании. Установка TFS 200 сочетает современный дизайн и технические решения, позволяющие наносить покрытия высочайшего качества на широкий спектр подложек различных материалов и размеров. TFS 200 может осуществлять покрытие пластин, планарных объектов, пористых материалов, а также порошков и сложных объёмных объектов удлинённой формы. В зависимости от подложки, на выбор предлагаются три различных варианта реакционной камеры. Устройство установки позволяет использовать большое количество разнообразных прекурсоров, поскольку включает в себя более 8-ми газовых линий, 4 емкости для жидкостей и 4 горячих источника (нагрев до 500°C). Максимальная температура нагрева подложки составляет до 1000 ° C.