| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Япония |
| Год производства | 2008 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 500 тыс. до 1 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 10 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
В ходе анализа образцы облучаются пучком электронов с энергией 15 кэВ. При этом с поверхности вылетают вторичные электроны, отраженные электроны, а также тормозное и характеристическое рентгеновское излучение. Сравнение интенсивностей вторичных или отраженных электронов (данный прибор работает только в отраженных электронах) в различных
точках поверхности позволяет определить рельеф поверхности. По характеристическому излучению можно судить о составе поверхности.
Область применения. Анализ морфологии поверхности образцов после взаимодействия плазмы с поверхностью, физика твердого тела, тонких пленок. Проведение экспресс-анализа элементного состава образцов.
точках поверхности позволяет определить рельеф поверхности. По характеристическому излучению можно судить о составе поверхности.
Область применения. Анализ морфологии поверхности образцов после взаимодействия плазмы с поверхностью, физика твердого тела, тонких пленок. Проведение экспресс-анализа элементного состава образцов.