Классификация оборудования | |
Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
Страна производства | РФ |
Год производства | 2013 |
Предоставляемое количество | 1 |
Условия использования | |
Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Стоимость предоставления услуг | от 120 000 руб. |
Регламент предоставления услуги | — |
Объект коллективного пользования | Нет |
Наличие аккредитации | Нет |
Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Источник плазмы предназначен для активизации газовых реакций при пониженном давлении (1...10 Па) и позволяет генерировать ионы рабочего газа плотностью 1011 см-3. Источник плазмы состоит из трех взаимосвязанных устройств: реактор, ВЧ генератор и газовая система. Газовая система состоит из двух независимых каналов для подачи в зону реакции смеси газа-носителя и рабочего газа-прекурсора. В состав каждого канала входит полный комплект газовых элементов, необходимых для регулирования, управления и контроля газового потока. Подключение дополнительного высокочастотного генератора (и согласующего устройства соответственно) к подложкодержателю, не соединенного с корпусом установки, позволяет независимо от основного источника разряда корректировать энергию ионов.