Система безмасковой лазерной литографии DWL 66FS (Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH)
14 сентября 2018
325
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2009 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 3 365 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Система лазерной литографии.
Минимальный топологический размер до 0,6 мкм; дискретность адресной сетки до 25,4 нм;
скорость экспонирования для области 100×100 мм – до 416 мм2/мин.
Минимальный топологический размер до 0,6 мкм; дискретность адресной сетки до 25,4 нм;
скорость экспонирования для области 100×100 мм – до 416 мм2/мин.