Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems)

НИЯУ МИФИ
14 сентября 2018
1065
Классификация оборудования
Оборудование для физической обработки материалов
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Страна производства Великобритания
Год производства 2009
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Аренда|Заказ исследования
Стоимостная группа от 10 млн руб
Стоимость предоставления услуг от 5 132 руб.
Регламент предоставления услуги —
Объект коллективного пользования Нет
Наличие аккредитации Нет
Наличие ГОСТированной методики Нет

Описание

Осаждение SiNx, SiO2 из газовой фазы на подложки с использованием плазменного разложения реакционного газа.
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Смеситель для гомогенизации сухих порошков С 2.0 "Турбула" РФ Аренда, Заказ исследования Барнаул
Оборудование для 3D - прототипирования Contex ZPrinter 650 Z6505 США Аренда, Заказ исследования Барнаул
Оборудование для измельчения, усреднения и гомогенизации компонентов "Каскад 4" РФ Аренда, Заказ исследования Белгород
Модуль малоуглового рассеяния света для исследовательского реометра Physica MCR РФ Аренда, Заказ исследования Пермь
Управляющий центр для прецизионной обработки элементов рентгеновской оптики (Fehlmann) Швейцария Аренда, Заказ исследования Новосибирск
Комплект для прецизионной обработки изделий и элементов (HAAS) США Аренда, Заказ исследования Новосибирск
Базовый модуль лабораторной бисерной мельницы для получения дисперсий наночастиц Германия Аренда, Заказ исследования Москва
Мельница виброцентробежная для измельчения хрупких материалов ЦЭМ-7ГК РФ Аренда, Заказ исследования Иркутск
Оборудование для прототипирования образцов и корпусов приборов Тайвань Аренда, Заказ исследования Петрозаводск
Высокоэнергетическая шаровая мельница для наноизмельчения США Аренда, Заказ исследования Ростов-на-Дону