Установка для термического вакуумного напыления PVD-75 (Kurt J. Lesker Company)
14 сентября 2018
343
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | США |
| Год производства | 2009 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 1 748 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Напыление тонких пленок металлов в условиях высокого вакуума. Установки обладают широкими возможностями для получения покрытий из большинства применяемых в технологии микроэлектроники металлов (Ni, Ti, Al, Pt, Pd, V, Ta, Ge, Au, Cr, Cu) методами термического вакуумного, магнетронного и электронно-лучевого испарения.