Система лазерной литографии SF-100_XTREME
14 сентября 2018
431
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Пензенская область, Пенза |
| Страна производства | Япония |
| Год производства | 2002 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 50 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Набор специальной оптики: позволяет создавать структуры с размерами элементов от 0,5 до 15 микрон. Установка SF-100 позволяет менять длину волны для процесса экспонирования, на экспонирование требуется несколько секунд, т.к. в систему включено большое количество разнообразных фильтров; уровень мощности для работы с различной толщиной резиста, материалом и подложками разной сопротивляемости; размер пикселя путем изменения конфигурации линз. Многократные пиксели – для определения структуры. Процесс без использования шаблона, возможность автоматической загрузки подложек.