Высокопроизводительная система электронно-лучевой литографии JBX-9300FS (JEOL)
14 сентября 2018
342
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Япония |
| Год производства | 2011 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 35 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств. Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 300 мм (12″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 50 МГц, обладает высокой надежностью и производительностью. Уникальная система позиционирования позволяет достигать высокой точности сшивки проэкспонированных областей даже на больших полях зрения.