Установка плазмо-химического осаждения диэлектриков SI 500 PPD (SENTECH Instruments)

14 сентября 2018
528
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Страна производства Германия
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 1 до 10 млн. руб.

Описание

Предназначена для плазмо-химического осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом: PECVD осаждение SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Сильноточный линейный ускоритель ионов водорода Ядерно-физическая установка РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического газофазного роста алмазных пленок Япония Аренда, Заказ исследования Пермь
Магнитная Индукционно-Разрядная установка с ускоряющим напряжением 100кВ МИР-100 РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для финишного плазменного упрочнения УФПУ-114 РФ Аренда, Заказ исследования Воронеж
Установка индукционного нагрева мощностью 10 кВт, частотой 66 кГц РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Экспериментальная установка на ядерном реакторе на быстрых нейтронах ВВР-М РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Установка нагрева ТВЧ (высокочастотный индукционный нагреватель LH-30 KW-B) РФ Аренда, Заказ исследования Оренбург
Источник переменного напряжения с интерфейсом управления 3000Lx (California Instruments) США Продажа Нижнекамск
Колбонагреватель LAB-FH-500 Германия Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Генератор водорода H2-CAR-500 США Аренда, Заказ исследования Новочеркасск