Установка ионного распыления УИРИ-5 (ИМЕТ РАН)
14 сентября 2018
371
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2006 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 9 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для модифицирования поверхностных слоев (ПС) материалов и изделий посредством непрерывной обработки поверхности мишеней низкоэнергетическими ионными пучками и имплантации в ПС ионов рабочего газа. При этом возможна полировка поверхности, изменение структурно-фазового состояния ПС, нанесение пленочных покрытий.
Предполагаемые параметры установки УИРИ-5: энергия ионов рабочего газа 0,1 – 5 кэВ; плотность ионного тока 0,1 – 10 ма/см2; размер обрабатываемой поверхности ~ до 100 см2; рабочие газы; аргон, кислород, азот, метан, гелий, водород и др.
Предполагаемые параметры установки УИРИ-5: энергия ионов рабочего газа 0,1 – 5 кэВ; плотность ионного тока 0,1 – 10 ма/см2; размер обрабатываемой поверхности ~ до 100 см2; рабочие газы; аргон, кислород, азот, метан, гелий, водород и др.