Комплексная научная установка "Нанофаб-25" (НТ-МДТ)
14 сентября 2018
365
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Санкт-Петербург |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2012 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 25 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для вакуумного плазмохимического модифицирования поверхности и анализа поверхности методами электронной спектроскопии. Отличительной чертой комплексной установки является возможность модифицирования и анализа поверхностных слоев в условиях сверхвысокого вакуума. Образец перемещается между частями установки без выноса на атмосферу, что позволяет исследовать электронную структуру, химические связи в сверх тонких слоях образцов без внесения загрязнений и изменения химического состояния поверхности. Возможности части плазмохимической модификации и осаждения:
Использование источника удаленной плазмы мощностью 1 кВт.
Контролируемое создание смеси газов для плазменного источника из 3х газов.
Дополнительная подача газовой смеси (до 3-х газов) в область выхода плазмы.
Контроль газовых потоков с точностью до десятых долей см3/мин.
Контролируемый прогрев поверхности образцов до 600 оС
Возможность ввода лазерного излучения в вакуумную камеру (энергии квантов ~6 эВ)
Возможность подачи высокого напряжения на образец.
Использование источника удаленной плазмы мощностью 1 кВт.
Контролируемое создание смеси газов для плазменного источника из 3х газов.
Дополнительная подача газовой смеси (до 3-х газов) в область выхода плазмы.
Контроль газовых потоков с точностью до десятых долей см3/мин.
Контролируемый прогрев поверхности образцов до 600 оС
Возможность ввода лазерного излучения в вакуумную камеру (энергии квантов ~6 эВ)
Возможность подачи высокого напряжения на образец.