Ручная система нанесения и проявления фоторезиста с помощью центрифугирования LabSpin 6/8 (SUSS MicroTec)
14 сентября 2018
516
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для нанесения резиста в лабораторных условиях и выпускаются в двух вариантах - настольном, в собственном корпусе, и интегрируемом в столешницу. Центрифуга обеспечивает равномерное, точное и воспроизводимое нанесение резиста на полупроводниковые пластины, а также проявление фоторезиста на засвеченных пластинах. Контроль процессом осуществляется при помощи сенсорного дисплея и имеет интуитивно понятный интерфейс. На центрифуге возможно нанесение резиста не только на круглые полупроводниковые пластины, но и на квадратные, прямоугольные, а также неправильной формы.