| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Япония |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Система может использоваться в целом ряде процессов, начиная с производственного контроля в процессе первичной обработки пластины, где требуется гибкость, до финального визуального осмотра, где основным критерием является скорость.
Основные возможности:
Может использоваться в целом ряде процессов, начиная с производственного контроля в процессе первичной обработки пластины до финального визуального осмотра.
Обеспечивают высокую производительность независимо от количества схем на полупроводниковой пластине.
Легкое создание рецептов и оперативный анализ новых пластин.
Все результаты анализа можно подтвердить в режиме реального времени.
Компактный дизайн и низкая стоимость.
Основные возможности:
Может использоваться в целом ряде процессов, начиная с производственного контроля в процессе первичной обработки пластины до финального визуального осмотра.
Обеспечивают высокую производительность независимо от количества схем на полупроводниковой пластине.
Легкое создание рецептов и оперативный анализ новых пластин.
Все результаты анализа можно подтвердить в режиме реального времени.
Компактный дизайн и низкая стоимость.