Установка совмещения и экспонирования MA150e (SUSS)

Система MA150e является версией следующего поколения популярной установки совмещения и экспонирования с зазором MA150CC, которая используется в микролитографии. MA150e создана в соответствии с требованиями современной чистой комнаты. Основные возможности: Установка совмещения с высокой пропускной способностью 170 пластин/час (режим первого шаблона). Гибкость в транспортировке пластин и подложек от 2" до 6". Систему можно легко настроить для автоматического совмещения с верхней и нижней стороны с последней версией программы распознавания рисунка Cognex™. Быстрая смена устройств для разных размеров пластин. Невысокая стоимость для исследований и серийного производства. Экспонирование всей поверхности пластины обеспечивает более высокую пропускную способность, чем пошаговое экспонирование.
Держатель с верхней загрузкой для простой, быстрой и безопасной замены шаблона. Графический интерфейс пользователя Windows разработан в соответствии со стандартами SEMI. Специальные оптические системы обеспечивают универсальность, необходимую для достижения требуемого разрешения и экспонирования резистов различной толщины. Специальная система перемещения для хрупких подложек и обработки края.