Комплект оборудования для оптической литографии Suss MicroTec MJB4
14 сентября 2018
479
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Приморский край, Владивосток |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2007 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | до 50 т.р |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Основные характеристики возможности (назначение) Режимы контактной литографии:мягкий контакт;жесткий контакт;низковакуумный контакт;вакуумный контакт;контакт с зазором в диапазоне от 0 до 50 мкм.Предельное разрешение не хуже 0.6 мкм при вакуумном контакте. Система экспонирования позволяет работать на длинах волны 250, 300 и 400 нм.