| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для использования в НИОКР в качестве системы плазменного осаждения диэлектриков. Опции: LF генератор, in-situ эллипсометр, OES спектрометр и др. Размер подложек до 8’‘ (Ø 200 мм); Температура подложки до 400°C; Генератор 13,56 МГц, 300 Вт; Вакуум < 10-5 мбар; Газовые линии с РРГ до 16 шт; Габариты размещения на полу 635(Ш) × 1 250(Г) мм.
