Оптический прямой микроскоп BX53 (Olympus)

Предназначен для проведения исследований образцов в отраженном и проходящем свете. При работе с полупроводниковыми материалами микроскоп используется для решения следующих задач: Обнаружение и изучение особенностей микрорельефа поверхности образца связанных с ростовыми дефектами или протяженными дефектами кристаллической решетки, например, в эпитаксиальных слоях или образцах, подвергнутых различным воздействиям (ионная имплантация, электронное облучение, лазерный отжиг, прямое соединение пластин и др.). Определение распределения и плотности дефектов по поверхности образца и локализация отдельных дефектов с малой плотностью распределения. Выявление рельефа нанометровой высоты, например, при изучении морфологии поверхности эпитаксиальных слоев в структурах, содержащих дислокации несоответствия. Анализ качества фольг, изготовленных для просвечивающей электронной микроскопии.