Фотометрический спектроэллипсометр ЭЛЬФ (Наноиндустрия)
14 сентября 2018
549
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2013 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 6 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначен для измерения толщин тонких пленок и многослойных пленочных структур; определения спектров оптических постоянных и диэлектрических свойств материалов; анализа состояния поверхности и структуры тонких поверхностных слоев. Используется для контроля параметров в процессе производства и осуществления неразрушающего анализа структуры материалов (пористости, степени кристалличности, фазового состава, нерегулярности распределения наполнителя в нанокомпозите, наличия инородных включений, неоднородностей наноразмерного масштаба, состава и толщин межфазных границ).