Двухлучевой микроскоп-литограф Neon 40 ESB (Carl Zeiss)
14 сентября 2018
433
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Санкт-Петербург |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2012 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначен для исследования наноструктур, нанопрепарирования, локального ионного травления/осаждения и подготовки сверхтонких срезов для исследований методами ПЭМ. Имеется возможность локального ионно-стимулированного осаждения нескольких материалов (Pt, SiO2,вольфрам и др.).