Электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения 150 TWO (Raith)

Рассчитан на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, и предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий. Позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.