Система электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения e_LiNE plus (Raith)
14 сентября 2018
525
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Предоставляет расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. Предназначена для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий. Позволяет осуществлять литографирование с ультра-высоким разрешением на пластинах размером вплоть до 4 дюймов с автоматическим контролем и корректировкой процесса экспонирования. Cтабильность параметров электронно-оптической колонны и применение методов автоматической корректировки дрейфа и фокусировки позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности.