Установка дубления фоторезиста HP-200-Z (Sawatec)

14 сентября 2018
433
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Страна производства Швейцария
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 500 тыс. до 1 млн. руб.

Описание

Предназначена для сушки фоторезиста, сушки эпоксидных
покрытий, а также для любых других работ, требующих точную температуру. Небольшие температурные столы с расширенной конфигурацией. Имеются встраиваемые, настольные и напольные версии.
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Лабораторная установка для наработки неорганических спецпродуктов РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Лабораторная установка для получения препаратов повышенной степени чистоты РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для молекулярного нанесения и изучения монослоев п/п органических покрытий и ориентированных структур из фрагментов ДНК в жидкокристаллической фазе на твердых подложках с субмолекулярным разрешением. РФ Аренда, Заказ исследования Оренбург
Установка очистки воды Arium comfort I Bench-Top system (Sartorius) Германия Аренда, Заказ исследования Красноярск
Гидропонная установка РФ Аренда, Заказ исследования Барнаул
Установка получения апирогенной воды УВОИ -"МФ" 1812С8-1/1812П-1 3-5 л/ч РФ Аренда, Заказ исследования Барнаул
Лабораторная установка повышенной степени чистоты РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для очистки воды "Изумруд-КФ" (3 в 1) РФ Аренда, Заказ исследования Пенза
Установка нанесения: ФР OPTIspin SB20 США Аренда, Заказ исследования Томск
Установка молекулярно-лучевой эпитаксии STE75 РФ Аренда, Заказ исследования Ставрополь