Система безмасковой лазерной литографии MICROLAB (SVG Optronics)
14 сентября 2018
545
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Китай |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для проведения процесса лазерной литографии в условиях среднесерийного производства подложек и фотошаблонов. Благодаря возможности смены пишущих линз могут быть использованы в условиях опытного и мелкосерийного производства изделий с субмикронными размерами. Особенности: высокая скорость формирования изображений; формирование изображений с субмикронными размерами; диодный лазер в качестве источника излучения.