Установка совмещения и экспонирования MJ B4 (Suss Microtec)

Предназначена для исследовательских лабораторий и мелкосерийных производств. Обеспечивает быстрый и высокоточные процесс совмещения; экспонирование высокого разрешения – до 0,5 микрон; размер обработки пластин и подложек – до 100 мм диаметром (пластины) и до 100×100 мм (подложки); специальные держатели для кусков пластин, А3-Б5, толстых подложек, гибридных схем и ВЧ; высокоточная юстировка на плоскости и манипулятора микроскопа; возможность конфигураций оптики интенсивной УФ и экспозиций с длиной волны до 80 мВт/см2.