Автоматизированная шлюзовая установка плазмостимулированного осаждения PECVD15 (РУ-ВЭМ)
14 сентября 2018
446
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Установка обеспечивает: стабилизацию заданного расхода технологических газов по четырём каналам и контроль расхода газа по каждому каналу; автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; перемещения подложек из шлюза на позицию осаждения и обратно при помощи автоматического манипулятора. На установке реализованы следующие технологии: осаждение тонких плёнок на диэлектрик с ионным ассистированием; осаждение диэлектриков (нитрида и оксида кремния) с хорошим качеством и равномерностью, из моносилана с кислородом и азотом при «комнатных» температурах подложки; осаждение разных типов плёнок (чередующихся слоёв) в одном вакуумном цикле; осаждение металлических плёнок (золота, меди и др. не образующих летучих соединений) путём катодного распыления в плазме инертных газов.