Прямой микроскоп BX51M-IR (Olympus)
14 сентября 2018
433
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Новосибирская область, Новосибирск |
| Страна производства | Япония |
| Год производства | 2015 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | до 500 000 тыс. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначен для проведения исследований как в проходящем, так и в отраженном свете. Общий диапазон увеличений от 12,5х до 2500 крат. Используется для проведения исследований в отраженном свете полупроводников и ИС кристаллов, а также исследования CSP кристаллов после испытаний на ударную прочность в отраженном свете в ближнем инфракрасном диапазоне.