Низкоэнергетичный источник широкого пучка ионов газов с плазменным катодом ИЭФ УрО РАН
14 сентября 2018
645
Классификация оборудования | |
Страна, регион, город | Российская Федерация, Свердловская область, Екатеринбург |
Страна производства | РФ |
Год производства | 2013 |
Предоставляемое количество | 1 |
Условия использования | |
Стоимостная группа | от 500 тыс. до 1 млн. руб. |
Стоимость предоставления услуг | договорная |
Регламент предоставления услуги | — |
Объект коллективного пользования | Нет |
Наличие аккредитации | Нет |
Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Ионное распыление материалов и нанесение покрытий с ионно-лучевым сопровождением. Основные характеристики: энергия ионов 0.5–5 кэВ; ток пучка 200 мА; сечение пучка 100 см2.