Низкоэнергетичный источник широкого пучка ионов газов с плазменным катодом ИЭФ УрО РАН

14 сентября 2018
971
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Свердловская область, Екатеринбург
Страна производства РФ
Год производства 2013
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Аренда|Заказ исследования
Стоимостная группа от 500 тыс. до 1 млн. руб.
Стоимость предоставления услуг договорная
Регламент предоставления услуги —
Объект коллективного пользования Нет
Наличие аккредитации Нет
Наличие ГОСТированной методики Нет

Описание

Ионное распыление материалов и нанесение покрытий с ионно-лучевым сопровождением. Основные характеристики: энергия ионов 0.5–5 кэВ; ток пучка 200 мА; сечение пучка 100 см2.
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Источник питания АТН-2232В РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Лабораторный источник питания APS-7335 Китай Аренда, Заказ исследования Москва
Источник электропитания для магнетронных распылительных систем: ApEL-M-5PDC РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Источник питания постоянного напряжения GPR-1850 РФ Аренда, Заказ исследования Махачкала
Источник питания Б5-71/1м РФ Аренда, Заказ исследования Ростов-на-Дону
Источник питания GPR-30H10D Китай Аренда, Заказ исследования Томск
Источник бесперебойного питания UPS АРС РФ Аренда, Заказ исследования Ростов-на-Дону
Источник питания электромагнита для исследования магнитотвердых материалов SVR4, Magnet-Physik GmbH Германия Аренда, Заказ исследования Москва
Источник питания Б5-49 РФ Аренда, Заказ исследования Пенза
Источник питания постоянного тока программируемый АКИП-1109 РФ Аренда, Заказ исследования Тула