Платформа Trymax NEO 2400

Платформа NEO 2400 является самым современным пополнением в линейке систем плазменной обработки, озоления и зачистки пластин от компанииTrymax Semiconductor Equipment. Система имеет компактное основание, обладает необходимой гибкостью и прекрасно адаптируется к постоянно изменяющимся требованиям производства. NEO 2400 комбинируется с любым из существующих технологических модулей Trymax NEO для обработки подложек диаметром до 200 мм

Основные возможности:

Размер подложек до 200 мм
3 встроенных порта SMIF или 4 открытые кассетные станции
Четырехосевое подающее устройство с двумя манипуляторами
Опционная станция охлаждения и устройство для совмещения меток
2 или 4 рабочих камеры
4 технологических модуля: СВЧ (2,45 ГГц), ВЧ-смещение (13,56 Мгц), Двойной источник (СВЧ, ВЧ-смещение), DCP (ВЧ-смещение, плазма постоянного тока)
Высокая равномерность и воспроизводимость
Механическая производительность > 300 п/п пластин в час
Компактное основание
Низкие эксплуатационные расходы
Система связи с цифровым управлением (Devicenet, Ethernet)
Промышленный ПК на базе Windows

Применение
Удаление резиста с большой площади
Удаление непроявленного резиста
Удаление полимера
Удаление резиста после высокодозной ионной имплантации
Травление нитрида кремния
МЭМС
Корпусирование и тестирование (PR, PI, BCB, PBO)

Управление вводом/выводом с помощью Devicenet и Ethernet
Модули FESTO CPX devicenet сопряжены со всеми цифровыми и аналоговыми вводами и выводами
Управление пневматическими компонентами через модули FESTO CPX devicenet
Цифровые регуляторы массового расхода Horiba
Современный ВЧ-генератор энергии с управлением через Ethernet
Загрузочные порты Brooks Vision с управлением через Ethernet
Управление блокировками
Управление блокировками происходит через программируемый центральный контроллер безопасности
Функции каждой из блокировок предустановлены

Применение:
Снятие фоторезиста (высокая темп.)
Удаление непроявленного резиста (низкая темп.)
HDI

Комплектация:
Алюминиевый держатель с литым контуром нагрева и охлаждения (диапазон: 20–250°C ± 2°C)
Вакуумная камера из электрополированного алюминия
Направляющая с 3 подъемными штифтами и простой регулировкой
Двойные кварцевые перегородки для работы с материалами, не содержащими CF4
Перегородки из алюминия/керамики для процессов с CF4 (> 5% общего объема)
СВЧ-источник мощностью 2 кВт или 3 кВт и частотой 2.45 ГГц
Регуляторы массового расхода Horiba Device net (макс. 5 на газовую/рабочую камеру)
Регулятор массового расхода с системой вентиляции
Система регулировки давления VAT 615
Устройство для определения конечной точки длины волны с прямой связью (Verity)