| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2016 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 500 тыс. до 1 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для высококачественной бездефектной бесфлюсовой вакуумной пайки и пайки в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме) полупроводниковых устройств, силовых приборов и других изделий микроэлектроники. Благодаря компактной конструкции установка вакуумной пайки занимает мало места. Скорость нагрева составляет максимально 180 K/мин, а скорость охлаждения может достигать максимально 240 K/мин. Внутри вакуумной камеры системы в зависимости от конструкции системы могут содержаться следующие газовые атмосферы: вакуум; азот; защитный газ с максимальным содержанием водорода 5%; азот (или другой инертный газ), обогащенный муравьиной кислотой. Полезная площадь нагревательной плиты составляет 160 мм x 160 мм (опционально до 160х180 мм.), максимальная высота спаиваемого изделия 50 мм (опционально 100 мм.).