Модульный поляризационный микроскоп Eclipse LV100 ND Pol, Nikon
27 апреля 2019
512
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Япония |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | до 500 000 тыс. руб. |
Описание
Предназначен для работы при эпископическом/диаскопическом освещении, позволяет управлять сменой объективов и интенсивностью освещения с помощью блока управления камерой DS-L3 и автоматически распознает метод наблюдения. Подходит для наблюдений по методу светлого поля, темного поля, простой поляризации, ДИК, эпифлуоресценции и двухлучевой интерферометрии. Кроме того, возможно выполнять наблюдения по методу фазового контраста и ДИК при диаскопическом освещении. Отвечает разнообразным требованиям наблюдения, контроля, исследования и анализа в широком спектре отраслей промышленности. Высокая числовая апертура и большое рабочее расстояние являются залогом высоких оптических характеристик и эффективного процесса получения цифровых изображений. Модель снабжена надлежащей защитой от статического электричества, что делает ее подходящей для работы с магнитными головками.