Установка глубокого реактивно ионного травления NeoS-MAXIS200, GigaLane
27 апреля 2019
421
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Корея |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Предназначена для выполнения циклических и нециклических процессов травления кремниевых подложек с использованием высокоплотной плазмы. Система подходит как для массового производства так и для R{}D-центров, работающие с пластинами 4 ~ 8 дюймов. Широкие технологические возможности: циклическое и нециклическое травление, высокоскоростное травление, высокая однородность процесса и высокое соотношение сторон с контролем профиля, гладкая поверхность, контроль профиля краев.