Система для оптической 3D нанолитографии Photonic Professional, Nanoscribe

Позволяет создавать трехмерные микро- и наноструктуры, используя фоточувствительные материалы. Система литографии позволяет расширить границы научных исследований и разработок благодаря возможности создавать воспроизводимые структуры субмикрометрового масштаба, причём полностью автоматизировано и с возможностью вариации параметров. Наиболее типичными приложениями для технологии лазерной литографии являются: производство трёхмерных матриц для клеточной биологии, производство микрооптических компонентов или фотонных кристаллов, разработка систем микро- и нанофлюидики. Требуемые структуры могут проектироваться и транслироваться путём использования системы автоматизированного проектирования, поддерживающей формат DXF, или с помощью языка GWL. Высокое разрешение в случае с трёхмерной литографией достигается только путём использования соответствующих систем точного позиционирования. В 3D лазерной литографии фокус и лазерный луч остаются фиксированными, в то время как подложка с образцом перемещаются в соответствии с заданным алгоритмом движения. Причём траектория движения луча является такой же важной составляющей процесса, как и точность, с которой луч перемещается в конечную координату. Для достижения требуемого результата литографии во время перемещения обычно варьируют интенсивность лазерного луча в зависимости от ускорения или замедления системы позиционирования.