Установка глубокого реактивно ионного травления MAXIS300LAH/LCH, GigaLane
11 сентября 2021
219
Классификация оборудования | |
Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
Страна производства | Корея |
Предоставляемое количество | 1 |
Условия использования | |
Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Установка используется для PSS (Patterned Sapphire Substrate) процессов, улучшающих эффективность светодиодных чипов. Приложения: Sapphire(PSS for LED) травление; MESA(GaN,Isolation for LED) травление; SiO2 травление; Metal(Al) травление; SiC травление; Glass травление.