Установка глубокого реактивно ионного травления MAXIS300LAH/LCH, GigaLane
11 сентября 2021
391
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Корея |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Установка используется для PSS (Patterned Sapphire Substrate) процессов, улучшающих эффективность светодиодных чипов. Приложения: Sapphire(PSS for LED) травление; MESA(GaN,Isolation for LED) травление; SiO2 травление; Metal(Al) травление; SiC травление; Glass травление.
