Система ионного утонения EM RES102, Leica Microsystems
18 октября 2021
473
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Швейцария |
| Год производства | 2019 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 500 тыс. до 1 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Да |
| Наличие аккредитации | Да |
| Наличие ГОСТированной методики | Да |
Описание
Предназначена для ионной полировки образцов как для сканирующей, так и для просвечивающей электронной микроскопии. Установка оборудована двумя источниками ионов с седловидной формой поля, обеспечивающими переменную энергию частиц и высокую производительность установки при полировании образцов. Технические характеристики: Диапазон напряжений – 0,8-10 кВ; Диапазон углов – от -45 до 45°; Максимальные размеры образцов: СЭМ – максимальный диаметр 25 мм, высота 6 мм; под торец – максимальная высота 5 мм, толщина 3 мм, длина 15 мм; ПЭМ – минимальная толщина 50 мкм, максимальный диаметр 14 мм, диаметр травления 3 мм и 2,3 мм.