Узкополосный эксимерный лазер для проекционной фотолитографии OLS100K, Оптосистемы
11 ноября 2026
36
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Ключевые особенности:
Высокая пространственная когерентность;
Высокая стабильность энергии в импульсе;
Для производства волоконных брэгговских решеток.
Длина волны: 248.4 нм.
Стабильность энергии импульса, Sigma <3%
Высокая пространственная когерентность;
Высокая стабильность энергии в импульсе;
Для производства волоконных брэгговских решеток.
Длина волны: 248.4 нм.
Стабильность энергии импульса, Sigma <3%
