| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Санкт-Петербург |
| Страна производства | Япония |
| Год производства | 2011 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 10 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначен для атомно-силовой микроскопии (АСМ) поверхности подготовленных проб и препаратов размером не более 10 мм х 5 мм, высотой не более 3 мм, и шероховатостью поверхности не более 1 мкм, в контактном и полуконтактном режимах. Сканирующая туннельная микроскопия и спектроскопия атомарно гладких проводящих или полупроводниковых поверхностей специально подготовленных проб и препаратов. Разработка способов исследования поверхностей препаратов в жидкостной ячейке в ограниченном диапазоне составов растворов.
Области применения: минералогия, разработка новых материалов.
Области применения: минералогия, разработка новых материалов.