Экспонирование высокого разрешения (ЦКП «Гетероструктурная СВЧ-электроника и физика широкозонных полупроводников»)
14 сентября 2018
424
| Виды услуг | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Оборудование, с использованием которого выполняется услуга | — |
| Ориентировочная стоимость | от 2 796 руб. |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
| Описание опыта выполнения аналогичных услуг | — |
Описание
Установка совмещения и экспонирования, при производстве микросхем – разрешение до 0,5 микрон. Размер обработки пластин и подложек - до 100 мм диаметром (пластины) и до 100×100 мм (подложки).