Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем (ЦКП «Гетероструктурная СВЧ-электроника и физика широкозонных полупроводников»)

14 сентября 2018
210
Виды услуг
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Регламент предоставления услуги
Оборудование, с использованием которого выполняется услуга
Ориентировочная стоимость от 3 365 руб.
Наличие аккредитации Нет
Наличие ГОСТированной методики Нет
Описание опыта выполнения аналогичных услуг

Описание

Применение: микронная и субмикронная литография; формирование рисунка бланков фотомасок, а также прямое формирование рисунка на подложке до 200 мм в диаметре. Создание шаблонных заготовок с различной топологией рисунка для фотолитографии. Области производства: создание транзисторов и монолитных интегральных схем; светодиоды; фотонные кристаллы; одномерные проводники. Формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.