Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем (ЦКП «Гетероструктурная СВЧ-электроника и физика широкозонных полупроводников»)
14 сентября 2018
487
| Виды услуг | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Оборудование, с использованием которого выполняется услуга | — |
| Ориентировочная стоимость | от 3 365 руб. |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
| Описание опыта выполнения аналогичных услуг | — |
Описание
Применение: микронная и субмикронная литография; формирование рисунка бланков фотомасок, а также прямое формирование рисунка на подложке до 200 мм в диаметре. Создание шаблонных заготовок с различной топологией рисунка для фотолитографии. Области производства: создание транзисторов и монолитных интегральных схем; светодиоды; фотонные кристаллы; одномерные проводники. Формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.