Анизотропное травление материалов, в режиме реактивно-ионного травления (ЦКП «Гетероструктурная СВЧ-электроника и физика широкозонных полупроводников»)

14 сентября 2018
166
Виды услуг
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Регламент предоставления услуги
Оборудование, с использованием которого выполняется услуга
Ориентировочная стоимость от 2 079 руб.
Наличие аккредитации Нет
Наличие ГОСТированной методики Нет
Описание опыта выполнения аналогичных услуг

Описание

Реактивно-ионное травление многослойных гетероструктур нитридов алюминия-галлия-индия на подложках лейкосапфира или карбида кремния, травление сквозных отверстий в подложках фосфида индия и арсенида галлия. Осаждение SiNx, SiO2 из газовой фазы на подложки с использованием плазменного разложения реакционного газа.